烏彌金提示您：看後求收藏（奇妙書庫www.qmshu.tw），接著再看更方便。
諾伊斯：【切~】
傑克·基爾比的發言剛結束，諾伊斯就發出噓聲。
江維：“切什麼切，到你了，有什麼把式就亮一亮。”
諾伊斯：【一個鍺晶片上就一個電晶體，也好意思說自己是積體電路。就讓哥跟你講講，什麼才是真正的積體電路。】
傑克·基爾比：【老子是19年生的，你是1927年才蹦出來的，誰是大哥數學不及格麼！就算不比年紀，比個頭，老子也是大個！】
諾伊斯：【兩米高了不起啊，你那麼能打nba去啊！】
江維：“風度，風度！”
諾伊斯：【哼！讓我來給你們介紹一下，什麼才是真正的積體電路工藝技術吧。
當時，電晶體都是檯面工藝，也就是你們理解的3d。但這種“造型”會有問題，最早是軍方提出異議的。
軍方洲際導彈發射時會產生巨大的震動，這個動靜會使得電晶體上的一些金屬粉塵顆粒脫落，導致電晶體暴露的接頭處出現短路的問題。
所以我們快捷半導體開始想辦法著手解決這個問題。
要解決這個問題我給大家進行了分工，一是由赫爾尼和摩爾負責研究新的擴散工藝。二是由我和拉斯特一起攻堅平面照相技術。
核心的目的，就是將電晶體從以前的“檯面”造型變成“平面”造型。
當然，這裡還要感謝貝爾實驗室前期的技術鋪墊。
他們有兩項發明，是實現半導體平面工藝的基礎。】
此時，訊息驗證的聲音又響了。絕壁是系統管理員的“知識圖譜”安排！
好吧，江維直接把人放了進來。
卡爾·弗洛士：【嘿嘿，大家好。】
諾伊斯：【喲，二氧化矽薄膜製備的發明人來了。既然您來了，那就由您介紹這項為半導體平面工藝奠基的重要技術吧。】
卡爾·弗洛士：【好的呀！1955年，我正在搞研究，鑽研如何解決矽表面在高溫雜質擴散時裂開的問題。
然後，一不小心將氫氣加入了擴散中，擴散爐中一下子就產生了水蒸氣，迅速在矽晶體表面產生了一層二氧化矽。
結果，你猜怎麼著。沒想到啊沒想到，這層二氧化矽竟然是一層很好的雜質擴散阻擋層！】
觀眾大喇叭牛哄哄：“又是不小心！切克老司機不小心發現了直拉法，這哥們又不小心發現二氧化矽的阻擋層作用。
這就是機緣砸在臉上吧！我的天，請不用疼惜我，也給我來個不小心吧。”
觀眾太空漫步者：“哪有那麼容易，雖然是他們都是不小心造成了某種現象，但後續會對這種現象展開進一步的研究，才會誕生最終的學術成果。
你不小心，真的就只是不小心臉被砸扁了而已。”
卡爾·弗洛士：【後來，我和我的技術研究員林肯·德里克立刻進行進一步研究。
用氫氟酸在二氧化矽上腐蝕出一些小區域露出部分矽，從這些“開口”進行雜質擴散。
採用這種方法，能將雜質擴散到矽晶片上的指定區域。由此，為在同一種材質上製作出各種電路打下了基礎。】
張汝京：【對，二氧化矽很快就成為電晶體生產和平面處理技術中重要的物質。它不但可以用作半導體pn結之間的絕緣物質，同時還能保護矽晶體不受金屬汙染。
在後來的晶片工藝中，二氧化矽被廣泛應用在封裝和絕緣工藝中。】
諾伊斯：【卡爾·弗洛士他們的這種全新擴散技術，使得雜質只能從“開口”處擴散到矽晶片上。而覆蓋二氧化矽氧化膜的地方被保護了起來。
這種技術，讓光刻技術呼之欲出。
同年，貝爾實驗室的朱爾斯·安德魯斯和沃爾特·邦德將製造印刷電路的光刻技術用於矽片加工。
他們在二氧化矽的氧化膜上均勻的塗抹一層“光致抗蝕劑”，也就是我們現在所說的光刻膠。
然後透過光學曝光，將電路圖“影印”在這一圖層上，形成精準的“開口”區。
之後，在用化學方式將圖案進行腐蝕，製作出“開口”，最後將雜質從“開口”擴散到下面的矽晶片上，形成半導體所需要的pn結。
貝爾實驗室的這兩項技術，就是半導體平面工藝的基礎。】
觀眾大喇叭牛哄哄：“咦，這不就像以前用膠捲拍照，再衝洗的過程麼？只不過多了一個腐蝕過程，將圖形在矽晶片上腐蝕出來。”
