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在研究所一直呆到了傍晚，晚上週宏邀請了李秀成和胡英梅去家裡吃飯。
兩個兒子都在外地上班，家裡就老兩口。
老太太很好客，尤其是知道李秀成是周宏的老闆更是熱情無比，拿出看家的本事整了滿滿當當的一桌子菜。
到餐末時，李秀成說道：“明天我就不去研究所了，我和胡會計到北京玩兩天然後就直接飛興蓉。
研究所這邊還得要周教授您多費心，把好關。”
周宏一拍胸口，嚴肅道：“放心吧李總，只要我這把老骨頭還立得起來，就不會讓研究停下來。”
“嗯。我相信周教授！”李秀成微笑著點頭，他對老前輩的道德品格是相當信任的，不過也是時候談一談光刻機的發展線路問題了。
現在研究的是老舊的乾式微影光刻機，但未來是浸入式光刻機的天下，要怎麼才能讓老前輩接受這個觀點呢？
這就要好好琢磨琢磨下了。
吃完飯，胡英梅幫著老太太去收拾碗筷。兩人坐回到沙發上喝茶解膩。
李秀成斟酌著說道：“我有一個問題想要請教周教授。”
“光刻機的？有什麼問題你儘管問。”周宏就是欣賞李秀成這一點，有什麼不懂的也不憋著。同樣，知道自己不懂，也不亂指揮人。
這樣大方明理又能放權的老闆，可比以前那些外行指揮內行的領導要強太多了。
“我知道光刻機的塗膠原理其實跟相機膠片暴光差不多，最近我也一直在惡補這方面的知識。
我知道像光刻機的生產效率、良率以及最小解析度均在不斷發展。
而光刻機的最小解析度由一個公式r=kλ/na控制。
其中r代表可分辨的最小尺寸也就是我們追求的精度，那麼肯定就是r越小越好，k是工藝常數代表我們的工藝技術,λ.....λ...。
λ是什麼來著？”
說到這裡，李秀成像是卡了殼，撓著腮幫子說道。
周宏一臉好為人師的表情笑道：“λ是光刻機所用光源的波長，我們現在研究的就是g線光刻機，波長346nm。
na代表物鏡數值孔徑這個東西也就是關鍵的暴光系統。
這也是最難的東西，我們現在造的都是落後別人十年的引數產品。
反正，光刻機制程工藝水平的發展是一直遵循你說這個公式的。
現在米國的最新型光刻機已經可以生產800nm製程的晶片，我們卻還在1200nm徘徊，還差得遠囉！”
說到最後，周宏反而一臉失落，也沒了開始的興致。
“哦，真複雜！”李秀成做出一臉我很懵的表情，然後話鋒一轉道：“但我大致抓到了兩個重點，光源、物鏡折射率！
想要提升晶片的生產效率和良率，是必須要同時發展光刻機的內部構造和工作模式。
那麼我們可以從整體因素考慮，為什麼不換一種光源，然後再換一種折射介質？”
“嗯？”周宏回過神來，有些奇怪的說道：“現在光線就g線和i線兩種，波長在三百多到四百左右，確實比較大，而且國際上的公同認知是在193nm縮短到157nm製程時會出現瓶頸。
但折射介質是什麼說法？”
見周宏來了興趣，李秀成嘴角微勾然後迅速恢復原狀。
這也就是現在的乾式微影光刻機和浸沒式光刻機的最大區別了！
他故意做出一臉不確定的說道：“光線我覺得可以多做試驗，把什麼xyz射線啊，紫外線，極光都試試，總能找到最合適的。
至於折射率嘛，現在的光刻機光波是在空氣中傳播，然後照射暴光。
但我們讀書時不是有個知識點，是光進入不同的介質波長會有所改變嘛？
那麼我們能不能把物鏡折射後的光源再次進行一次介質折射。
比如水，比如其他的液體！”
一口氣說完最核心的東西，李秀成捧起茶杯看向周宏。
此刻，周宏呆坐當場。
但一雙微眯著的眼睛和緊皺的眉頭卻顯示出他的腦子裡正在進行劇烈的思索。
李秀成沒有催促，甚至沒有說一句話，就捧著茶杯靜靜的等待著。
直到胡英梅和老太太走了出來，兩人見客廳如此安靜，再看到周宏像是泥塑木雕一般的狀態，不由大為好奇。
“怎麼了老頭子？”老太太不輕不重的叫了
